來源:學術之家整理 2025-03-18 15:36:49
《Ieee Transactions On Electron Devices》中文名稱:《IEEE Transactions On Electron Devices》,創(chuàng)刊于1954年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期Monthly。
《IEEE 電子器件學報》發(fā)表與電子和離子集成電路器件和互連的理論、建模、設計、性能和可靠性有關的原創(chuàng)和重要貢獻,涉及絕緣體、金屬、有機材料、微等離子體、半導體、量子效應結構、真空器件和新興材料,應用于生物電子學、生物醫(yī)學電子學、計算、通信、顯示器、微機電、成像、微致動器、納米電子學、光電子學、光伏、電源 IC 和微傳感器。還發(fā)表了關于這些主題的教程和評論論文,偶爾還會出版專刊,介紹一系列更深入、更廣泛地討論特定領域的論文。
旨在及時、準確、全面地報道國內外PHYSICS, APPLIED工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態(tài)等。
國家/地區(qū) | 發(fā)文量 |
CHINA MAINLAND | 741 |
USA | 455 |
India | 399 |
Taiwan | 232 |
South Korea | 181 |
GERMANY (FED REP GER) | 149 |
Japan | 123 |
Italy | 111 |
France | 110 |
England | 100 |
文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
Fully Inkjet-Printed Photode... | 42 |
Effects of Postannealing on ... | 37 |
Critical Role of Interlayer ... | 28 |
Demonstration of Constant 8 ... | 27 |
Ferroelectric FETs With 20-n... | 22 |
2-D Layered Materials for Ne... | 20 |
High Endurance Ferroelectric... | 20 |
BTI Analysis Tool-Modeling o... | 20 |
Improved Switching Stability... | 18 |
Design and Investigation of ... | 17 |
被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
IEEE T ELECTRON DEV | 3214 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 865 |
JPN J APPL PHYS | 565 |
IEEE J ELECTRON DEVI | 499 |
SOLID STATE ELECTRON | 431 |
IEEE ACCESS | 422 |
SEMICOND SCI TECH | 412 |
J APPL PHYS | 400 |
APPL PHYS LETT | 388 |
J COMPUT ELECTRON | 284 |
引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
IEEE T ELECTRON DEV | 3214 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 1587 |
APPL PHYS LETT | 1366 |
J APPL PHYS | 866 |
SOLID STATE ELECTRON | 384 |
PHYS REV B | 305 |
ADV MATER | 238 |
MICROELECTRON RELIAB | 235 |
NANO LETT | 209 |
ACS APPL MATER INTER | 195 |
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