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首頁 SCI Ieee Transactions On Electron Devices雜志 雜志問答

《Ieee Transactions On Electron Devices》雜志的收稿方向是什么?

來源:學術之家整理 2025-03-18 15:36:49

《Ieee Transactions On Electron Devices》的收稿方向主要集中在PHYSICS, APPLIED領域,涵蓋該領域的全方面內容。

《Ieee Transactions On Electron Devices》特點:

《Ieee Transactions On Electron Devices》中文名稱:《IEEE Transactions On Electron Devices》,創(chuàng)刊于1954年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期Monthly。

《IEEE 電子器件學報》發(fā)表與電子和離子集成電路器件和互連的理論、建模、設計、性能和可靠性有關的原創(chuàng)和重要貢獻,涉及絕緣體、金屬、有機材料、微等離子體、半導體、量子效應結構、真空器件和新興材料,應用于生物電子學、生物醫(yī)學電子學、計算、通信、顯示器、微機電、成像、微致動器、納米電子學、光電子學、光伏、電源 IC 和微傳感器。還發(fā)表了關于這些主題的教程和評論論文,偶爾還會出版專刊,介紹一系列更深入、更廣泛地討論特定領域的論文。

《Ieee Transactions On Electron Devices》定位:

旨在及時、準確、全面地報道國內外PHYSICS, APPLIED工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態(tài)等。

發(fā)文統(tǒng)計(統(tǒng)計區(qū)間:2023年-2024年)

國家/地區(qū) 發(fā)文量
CHINA MAINLAND 741
USA 455
India 399
Taiwan 232
South Korea 181
GERMANY (FED REP GER) 149
Japan 123
Italy 111
France 110
England 100
文章引用名稱 引用次數(shù)
Fully Inkjet-Printed Photode... 42
Effects of Postannealing on ... 37
Critical Role of Interlayer ... 28
Demonstration of Constant 8 ... 27
Ferroelectric FETs With 20-n... 22
2-D Layered Materials for Ne... 20
High Endurance Ferroelectric... 20
BTI Analysis Tool-Modeling o... 20
Improved Switching Stability... 18
Design and Investigation of ... 17
被引用期刊名稱 數(shù)量
IEEE T ELECTRON DEV 3214
IEEE ELECTR DEVICE L 865
JPN J APPL PHYS 565
IEEE J ELECTRON DEVI 499
SOLID STATE ELECTRON 431
IEEE ACCESS 422
SEMICOND SCI TECH 412
J APPL PHYS 400
APPL PHYS LETT 388
J COMPUT ELECTRON 284
引用期刊名稱 數(shù)量
IEEE T ELECTRON DEV 3214
IEEE ELECTR DEVICE L 1587
APPL PHYS LETT 1366
J APPL PHYS 866
SOLID STATE ELECTRON 384
PHYS REV B 305
ADV MATER 238
MICROELECTRON RELIAB 235
NANO LETT 209
ACS APPL MATER INTER 195

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